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    北京pk10雪球最稳计划: 防反射膜、透镜以及摄像装置.pdf

    摘要
    申请专利号:

    3d精准预测 www.1e2e.net CN201580052923.4

    申请日:

    2015.09.07

    公开号:

    CN106796308A

    公开日:

    2017.05.31

    当前法律状态:

    授权

    有效性:

    有权

    法律详情: 授权|||实质审查的生效IPC(主分类):G02B 1/115申请日:20150907|||公开
    IPC分类号: G02B1/115; B32B7/02; B32B17/06 主分类号: G02B1/115
    申请人: 富士胶片株式会社
    发明人: 高桥裕树; 饭田毅
    地址: 日本国东京都
    优先权: 2014.09.30 JP 2014-202655
    专利代理机构: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 王亚爱
    PDF完整版下载: PDF下载
    法律状态
    申请(专利)号:

    CN201580052923.4

    授权公告号:

    ||||||

    法律状态公告日:

    2018.12.14|||2017.06.23|||2017.05.31

    法律状态类型:

    授权|||实质审查的生效|||公开

    摘要

    本发明提供一种粘附性优异的防反射膜、透镜以及摄像装置。对光学基材(11)的表面成膜碳氢膜(16),作为以高折射率层发挥功能的第1层(12)。在第1层(12)上成膜折射率低于第1层(12)的折射率的MgF2膜(17),作为以低折射率层发挥功能的第2层(13)。通过相同的方法形成包括碳氢膜(16)的第3层(14)、包括MgF2膜(17)的第4层(15)。利用RF磁控溅射装置成膜碳氢膜(16)以及MgF2膜(17)。在成膜碳氢膜(16)时,将氩和氢的混合气体供给至真空槽(22),将膜中的一部分C??C键取代为C??H键。通过氢化而切断一部分C??C键,从而能够释放通过C??C键积存的应变即应力??梢曰竦谜掣叫杂乓觳⑶椅弈て苹档姆婪瓷淠?10)。

    权利要求书

    1.一种防反射膜,其设置于包括硫属化物玻璃的基材的表面,从所述基材侧依次具有
    多个层,
    与所述基材接触的第1层包括碳氢膜。
    2.根据权利要求1所述的防反射膜,其中,
    所述碳氢膜的含氢率ch在0[at.%]<ch≤6.1[at.%]的范围内。
    3.根据权利要求1或2所述的防反射膜,
    所述防反射膜具有第2层,所述第2层层叠于所述第1层,折射率低于所述第1层的折射
    率。
    4.根据权利要求3所述的防反射膜,
    所述防反射膜交替地具有多个所述第1层以及所述第2层。
    5.根据权利要求3或4所述的防反射膜,其中,
    所述第2层的波长10.5μm中的折射率为1.5以下。
    6.根据权利要求3至5中任一项所述的防反射膜,其中,
    所述第2层包括MgF2膜。
    7.根据权利要求1至6中任一项所述的防反射膜,其中,
    所述碳氢膜通过在含有H2的气体气氛中对碳靶进行溅射处理而成膜。
    8.一种硫属化物玻璃透镜,其具有权利要求1至7中任一项所述的防反射膜。
    9.一种摄像装置,其具有至少1片权利要求8所述的硫属化物玻璃透镜。

    关 键 词:
    反射 透镜 以及 摄像 装置
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